Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275270 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS PVD-Kammer für Endura ist ein fortschrittlicher plasmaverbesserter physikalischer Dampfabscheidungsreaktor (PVD) für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Diese Kammer nutzt eine lineare Dosierung von Prozessgasen, um eine wiederholbare Abscheiderate und ein gleichmäßiges Abscheidungsprofil zu erzeugen. Die PVD-Kammer ist für die Hochdurchsatz-qualitativ hochwertige PVD-Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten in Halbleiterherstellungsverfahren ausgelegt. Die PVD-Kammer verfügt über eine leistungsstarke Magnetronquelle, eine metallkeramische Konstruktion und eine automatisierte Prozesssteuerung. Die Metall-Keramik-Konstruktion sorgt für ein robustes und langlebiges Design, während das automatisierte Prozessleitsystem präzise und wiederholbare Parameter für die Abscheidung liefert. Die Magnetronquelle erzeugt eine hohe Energie, die eine qualitativ hochwertige Abscheidung erzeugt. Der lineare Dosiervorgang der PVD-Kammer erleichtert eine konsistente, wiederholbare und gleichmäßige Abscheidung. Die Kammer ist für eine Vielzahl von Abscheideprozessen ausgelegt, einschließlich Wärmedämmbeschichtung, Metallmusterung und Nitridfilmabscheidung. Die PVD-Kammer ist mit einem Wafer-Lastschloss, einer Pumpstation und einem Laden/Entladen-Port ausgestattet. Die Wafer-Lastschleuse bietet einen effizienten Kommissionierbereich, um unerwünschte Prozessgasverluste und Partikelverunreinigungen zu vermeiden. Die Pumpstation ermöglicht die schnelle Evakuierung der Kammer, wodurch eine kurze Bearbeitungszykluszeit erreicht wird. Der Load/Unload-Port bietet eine einfache Schnittstelle zum Depositionsprozess, mit Funktionen wie einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche und dem Zugriff auf einen Remote-Computer über USB-Kabel. Die Kammer ist mit fortschrittlichen Steuerungen und Monitoren ausgelegt, einschließlich eines Temperaturregelmoduls, Temperaturauslesungen und Kapazitätssensoren. Das Temperaturregelmodul sorgt für einen genauen und wiederholbaren Betrieb, während die Temperaturauslesungen eine visuelle Überwachung des Prozesses ermöglichen. Die Kapazitätssensoren liefern eine kontinuierliche Rückkopplung des Abscheideprozesses, einschließlich der Abscheiderate, des Profils und der Gleichmäßigkeit. Die PVD-Kammer verfügt außerdem über eine integrierte Sicherheitseinheit, die den Kammerdruck und das Vakuumniveau überwacht und bei einem anormalen Ereignis einen Alarm liefert. Die Sicherheitsmaschine umfasst auch ein Steuermodul zum Abschalten der Kammer bei Bedarf. AMAT PVD-Kammer für Endura ist eine fortschrittliche PVD-Kammer für hochvolumige, hochwertige Halbleiterherstellungsprozesse. Diese Kammer verwendet eine lineare Dosierung von Prozessgasen, metallkeramische Konstruktion und automatisiertes Prozesssteuerungswerkzeug für präzise und wiederholbare Parameter für die Abscheidung. Die Kammer ist mit einer Wafer-Lastschleuse, Pumpstation und Laden/Entladen-Port für eine effiziente und einfache Übertragung von Wafern ausgestattet. Fortschrittliche Steuerungen, Monitore und Sicherheitssysteme gewährleisten die Präzision und Zuverlässigkeit der Abscheideergebnisse.