Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275283 zu verkaufen
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ID: 9275283
Wafergröße: 12"
12"
Process: IMP TT
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0010-43626
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: 3310-00073
Pedestal integration box: 0010-28071
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
No Matcher
No hot ion / Pirani gauge.
AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura ist ein chemischer Dampfabscheidungsreaktor, der bei der Abscheidung von dünnen Schichten und anderen Materialien in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Die Kammer, die in einer Vakuum-Abscheidungssystemumgebung arbeiten soll, besteht aus einer Prozesskammer, einem Haltering, einer aktiven Elektrode, einer Hochfrequenz-Induktionsstromversorgung, einer Vakuumeinrichtung und weiteren notwendigen Komponenten. Die Prozesskammer hat eine Außenwand aus Edelstahl mit einer hochglanzpolierten Innenwand, um eine möglichst hohe Folienqualität zu gewährleisten. Es ist dicht ausgebildet und hat eine verstellbare Öffnung, um eine Prozesssteuerung zu ermöglichen. Es verfügt auch über einen Haltering, der hilft, die Kammer fest gesichert zu halten. Die aktive Elektrode ist verantwortlich für die Bereitstellung der notwendigen Eingänge in den Plasma Enhanced Deposition Prozess, gesteuert durch die Hochfrequenz-Induktionsnetzteil. Das Vakuumsystem hilft dabei, das für den Abscheideprozess erforderliche Vakuumniveau bereitzustellen, typischerweise in der Größenordnung von 10-6 Torr. Um die bestmöglichen Prozessergebnisse zu gewährleisten, ist die AMAT PVD-Kammer für Endura mit einer Reihe innovativer Funktionen ausgestattet. Dazu gehören kippbare Gasinjektoren, eine anpassbare Effusivity-Überwachungseinheit, eine Gleitkommasteuerungsmaschine, eine geschlossene Sputterpistolensteuerung, eine Ionenquelle und eine programmierbare Bias-Stromquelle. Darüber hinaus ist die Kammer so konzipiert, dass sie leicht aufrüstbar ist, sodass Anwender mit sich ständig entwickelnden Anforderungen Schritt halten und gleichzeitig langfristige Prozessstabilität gewährleisten können. Insgesamt bietet APPLIED MATERIALS PVD Chamber für Endura eine fortschrittliche Kammer, die hocheffizient, zuverlässig und vielseitig ist und es Anwendern ermöglicht, präzise und zuverlässige dünne Folien über viele Produktionszyklen zu entwickeln. Die erweiterten Funktionen machen die Kammer zu einer idealen Wahl für eine breite Palette von Anwendern, vom Universitätslabor bis zur Halbleiterindustrie. Mit seiner Wirtschaftlichkeit und zuverlässigen Leistung ist die PVD-Kammer für Endura die perfekte Lösung für viele Dünnschichtanforderungen.
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