Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura #9275288 zu verkaufen
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ID: 9275288
Wafergröße: 12"
12"
Process: RFxT Cu
Magnet
Heater: 0010-27983
Cryo pump OB-IF8
Gate valve: VAT
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Adaptor: 0041-06142; 0041-25104
Manometer: 1350-00255
ATM gauge: W117V-3H-F12M-X30014
Capacitance pirani gauge: PCG55003310-00288
Pedestal integration box: 0010-28071
Hot ion / Pirani gauge: 0190-26769
Shutter sensor assembly: 0190-10801
Source assembly: 0010-44917
ISAC CP 10 Block board: AS0084-03
Angle vacuum valve: AVT-150M-P-03
Defective power supply: 0190-34624
Heater lift motor
Wafer lift motor: MQMA012AF
Shutter motor: PK564AW2-A8
Drivers:
Heater driver: 3096-1007
Wafer lift driver: 0190-15328
Pedestal driver: PV2A015SMT1PA0-C1
Magnet rotation driver: BXD400B-S
5-Phase driver: A346-043-A4
MFC:
AR 20
AR 20
AR 200
No Cryo pump.
AMAT (APPLIED MATERIALS) AMAT/APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura ist ein hochleistungsfähiger physikalischer Dampfabscheidungsreaktor (PVD), der den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Diese modulare Plattform bietet eine Reihe von thermischen, chemischen und physikalischen Prozessfähigkeiten für eine Vielzahl von Anwendungen. Die Kammer verfügt über ein robustes Design, das ein breites Prozessfenster für eine breite Palette von Metallabscheidungen und Materialbearbeitungsanforderungen bietet. Es kann bis zu vier Prozessmodule aufnehmen, sodass Benutzer das Layout schnell neu konfigurieren und anpassen können, um neuen Technologien oder Anwendungen gerecht zu werden. Der modulare Aufbau der Kammer und das rekonfigurierbare Layout ermöglichen es dem Endbenutzer, sich schnell an Prozessänderungen anzupassen, was schnellere Technologieübergänge ermöglicht. Die PVD-Kammer wird von einer breiten Palette von Prozessgasen in Nass- und Trockenabscheidung angetrieben und verfügt über automatische Regelventile und Massenstromregler. Endura wurde auch mit fortschrittlichen Kühlsystemen entwickelt, um die thermische Gleichmäßigkeit über das gesamte Prozessmodul zu maximieren, Hot Spots zu eliminieren und eine überlegene Schichtabscheidung zu gewährleisten. Die PVD-Kammer ist in der Lage, eine breite Palette von Metallen und Materialien wie Kupfer, Wolfram, Aluminium und Titan abzuscheiden. Es bietet auch eine Reihe von einzigartigen Prozessfähigkeiten, wie Hochgeschwindigkeitssputterabscheidung, zum Abscheiden von hochwertigen Beschichtungen auf fortgeschrittenen Substraten. Die Kammer bietet auch programmierbare Möglichkeiten zur Variation des Kathodendurchmessers und der Zielgeschwindigkeit, um komplexe Formabscheidungsprofile und Dünnschichteigenschaften zu erreichen. Die Kammer selbst ist von einem elektronischen Schrank umgeben, der in einer umweltfreundlichen isolierten Polyurethan-Platte untergebracht ist und eine minimale Umweltbelastung gewährleistet. Die Regler im Gehäuse sind mit den XPS-Systemen verbunden, so dass Druck-, Temperatur- und Prozessparameter automatisch geregelt und überwacht werden können. Darüber hinaus wird die Kammer über ein benutzerfreundliches Touch-Panel bedient, mit dem Benutzer Parameter einfach verwalten, Rezepte verfolgen und die Kammersysteme überwachen können. Insgesamt ist die AMAT PVD-Kammer für Endura eine ideale Wahl für die Halbleiterproduktion mit einem flexiblen Design, leistungsstarken Prozessfähigkeiten und einfacher Bedienung. Egal, ob Sie eine Vielzahl von Metallen und Materialien ablegen oder komplexere Prozessmerkmale suchen, APPLIED MATERIALS PVD Chamber for Endura bietet eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für Ihre Produktionsanforderungen.
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