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STS Multiplex ICP HRM
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STS Multiplex ICP HRM #293811825
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STS

Multiplex ICP HRM

Etcher, 8" Gases: SF6, C4F8, Ar, O2, C2 Process pressure: 5-80 mTORR Masks: SiO2, SixNy Coil: 3000 W
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