Gebraucht DISCO DGP 8761 #9256500 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9256500
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Grinder / Polisher, 12"
Stand-alone
(2) Power exchangers
Wet polishing
CMP
UPS
OWSC-2007AS
VG256-15Z-D06 Vacuum unit
Z1 and Z2:
In-feed grinder
With wafer rotation
Air bearing
6.3 kW High frequency motor: 1000-4000 min⁻¹
Height gauge: 0-1.8 mm
Wheel, 12"
Z3: CMP
Air bearing
11.0 kW High frequency motor: 200-800 min⁻¹
Non contact gauge
Wheel, 18"
(4) Chuck tables:
Vacuum chuck
0-800 min⁻¹
Brush clean:
Wafer rotation: 10-60 RPM
Brush rotation: 100-600 RPM
DIW, Citric acid, O3: 0.4 - 1.51/min
Spin clean:
Wafer rotation: 30-1800 RPM
DIW, Citric acid, O3: 0.4 - 1.51/min
N2 10-50 NL / Min (2) Flow jets
Cleaning unit:
SHIBAURA Mechatronics SCG300-BS single wafer processing cleaner
Chemical supply equipment:
(3) DISCO FNNN-010000-00 Chemical supply units
KIEFER TECH CD-CiL115P-B Citric acid preparing equipment
KIEFER TECH CD-CiL210P-B Citric acid supply equipment
Missing parts:
DFM2800
LINTEC RAD2700 Wafer mounter system
2009 vintage.
DISCO DGP 8761HC ist ein hochpräziser Schleifer, Lapper und Polierer zur Verarbeitung großer Halbleiterscheiben. Diese Ausrüstung ist mit einer schnellen, direkten Antriebsspindel ausgelegt, die eine überlegene Genauigkeit in den Schleif- und Läppprozessen gewährleistet. Die Maschine ist in der Lage, Wafer mit einem Durchmesser von bis zu 6 Zoll zu schleifen, zu läppen und zu polieren, und ihre kontrollierte, mehrachsige Bewegung ermöglicht eine präzise Ausrichtung der Waferfunktionen. Darüber hinaus verfügt das System über Temperatur- und Druckregelungsfunktionen, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. DISCO DGP8761HC ist mit einem rotierenden, programmierbaren Arbeitskopf mit unabhängigen, einstellbaren Drehzahl- und Drehmomenteinstellungen ausgestattet. Diese Funktion ermöglicht es dem Gerät, eine perfekte Ausrichtung der Waferoberfläche mit der Schleifscheibe zu erzielen, was überlegene Schleifergebnisse gewährleistet. Die Maschine verfügt außerdem über eine hochpräzise Spindel und ein staubdichtes Gehäuse, um die Leistung der Schleifscheibe zu maximieren und die Verschmutzung von Schleifstaub zu minimieren. Darüber hinaus ermöglicht ein virtuelles Präsenztool es einem entfernten Benutzer, den Asset-Betrieb von einem sicheren Ort aus zu überwachen und zu steuern. Dieses Modell eignet sich ideal zum Schleifen und Läppen von Wafern für verschiedene Anwendungen wie Hyperschall, MEMS, Oberflächenplanarisierung sowie Leistungs- und Gerätesubstrate. Es ist in der Lage, sehr komplexe Gerätemuster mit überlegener Genauigkeit zu verarbeiten. Darüber hinaus nutzt das Gerät einen reproduzierbaren, automatisierten Läppprozess, der bis zu 10 Mikrometer Präzision entfernt. Darüber hinaus ist das System mit einer In-Process-Messtechnik ausgestattet, die Echtzeit-Feedback zur Anpassung und Gewährleistung konsistenter Schleifergebnisse liefert. Insgesamt ist DGP 8761 HC eine hochpräzise Einheit zum Schleifen, Läppen und Polieren von Halbleiterscheiben mit einem Durchmesser von bis zu 6 Zoll. Die direkt angetriebene, leistungsstarke Spindel und der programmierbare Arbeitskopf sorgen für überlegene Genauigkeit in den Schleif- und Läppprozessen. Darüber hinaus ist es mit Temperatur- und Druckregelungsmöglichkeiten sowie einer In-Process-Messtechnik-Maschine ausgestattet, um konsistente Ergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus ist dieses Werkzeug in der Lage, automatisiertes Läppen zu reproduzieren und eignet sich ideal zum Schleifen und Läppen von Wafern für verschiedene Anwendungen.
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