Gebraucht MAT 1207BWA #9153452 zu verkaufen

MAT 1207BWA ist ein Wafer- und Maskenwäscher, der zum Oxidationsschutz und zur Sauberkeit von Photomasken entwickelt wurde. Dieser Wäscher kann alle verbleibenden Rückstände gründlich und sicher aus den Masken entfernen, nachdem sie ihren vollständigen Ätz- oder Reinigungsprozess abgeschlossen haben. Es ist mit verschiedenen Funktionen, die überlegene Reinigungsleistung wie eine Top-Ladewafer und Maske Waschplattform, ein leistungsstarkes mehrstufiges Reinigungsverfahren und eine integrierte subambiente Temperaturkontrollausrüstung bieten ermöglicht. Der Wäscher verwendet einen hochmotorisierten, mehrstufigen Reinigungsprozess, der eine Mischung aus Lösungsmittel- und Waschmittellösungen sowie mechanische Wirkung verwendet, um die Oberfläche des Wafers und der Maske gründlich zu reinigen. Dieses Verfahren entfernt verschiedene Verunreinigungen wie Staub, Schmutz, Partikel, Restphotoresist und Monomere, die nach Beendigung des Ätz- oder Reinigungsprozesses auf der Oberfläche des Wafers oder der Maske verbleiben. Während die Waschplattform bewegt, Bürsten Spin, um die Waschmittellösung zu ermöglichen, die Oberfläche des Wafers und Maske zu schrubben. Der Waschprozess ist sehr effizient und leistungsstark, um auch die hartnäckigsten Rückstände zu entfernen. 1207BWA Wäscher ist mit einer Subumgebungstemperaturregelung ausgestattet, die eine präzise Kontrolle der Temperatur während des gesamten molekularen Reinigungsprozesses ermöglicht. Diese Temperaturregelung hilft, die Integrität der Oberfläche aufrechtzuerhalten und gleichzeitig eine optimale Umgebung bereitzustellen, um der Waschmittellösung eine tiefe und effektive Reinigung zu ermöglichen. Diese Temperaturregelung verhindert auch die Bildung von Kondensation, die zu einer chemischen Kontamination führen kann, indem die Oberfläche des Wafers und der Maske kühl gehalten wird. Um ein Höchstmaß an Wafer- und Maskenreinheit zu gewährleisten, wird der Wäscher auch mit einer eingebauten Luftreinigungseinheit geliefert. Diese Reinigungsmaschine ist in der Lage, Staubpartikel, Schutt und andere Restfotoresist und Abfälle aus der Luft zu entfernen, um eine Rekontamination von Wafer und Maske während des Waschvorgangs zu verhindern. MAT 1207BWA Wafer und Maskenwäscher bietet überlegene Sauberkeit und Oxidationsschutz für alle Photomasken. Es verwendet eine Kombination aus einem leistungsstarken Waschprozess und einem präzisen Temperaturkontrollwerkzeug, um eine optimale Oberflächenreinheit zu gewährleisten, während seine Luftreinigungskomponente Staub, Schmutz und alle verbleibenden Photoresist oder Abfälle beseitigt, die zu einer weiteren Kontamination führen könnten. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen ist dieser Wäscher eine zuverlässige und effiziente Lösung für jeden Photomasken-Reinigungsprozess.