Gebraucht SCHMID 352 #9124716 zu verkaufen
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ID: 9124716
Weinlese: 2009
Phosphor doper
Wafer thickness: 200 μm to 320 μm
Capacity: 3600 Cells / h at wafer 125 x 125 mm (1.5 M/min feed)
Ambient temperature: 20 - 24°C ± 2°C
Humidity: 48% to 54 % ± 2 %
Phosphoric acid
Concentration approx: 27%
Mixing ratio: 1:3 With 85% acid
Consumption approx: 0.4 l/h
Temperature: 34°C ± 1°C (Internal regulation)
Content vaporizer approx: 3 l
Content supply tank: 50 l
Water inlet belt cleaner:
DI water
Conductance: 1 μS
Temperature: 20°C ± 3°C
Consumption: 380 l/h at 2 bar inlet pressure
Inlet pressure: < 4 Bar
Working pressure: 3 Bar
Cooling water:
Infeed temperature max: 17°C
Consumption: >300 l/h
Inlet pressure max: 5 Bar
Pneumatic:
Inlet pressure: 6 to 10 bar
Working pressure: 6 Bar
Pollution:
Drying
Oil free
Maximum: 5 μm / 5 mg/m3
Suction
Working pressure: 0.5 Bar
Connection dimension: 90 mm
Exhaust air approx: 100 m3/h
Power supply: 3-Stages /N/PE, 400 VAC, 50 Hz, 24 VDC, 8 A / Stage, 5.5 kW
2009 vintage.
SCHMID 352 Wafer & Maskenwäscher ist ein vielseitiges, hocheffizientes Werkzeug, das den Anforderungen leistungsstarker Halbleiterverarbeitungsabteilungen gerecht wird. Dieser Wafer & Maskenwäscher verwendet die neueste Waschtechnologie, um schnelle, genaue und zuverlässige Ergebnisse zu liefern. Es ist in der Lage, Waferdurchmesser bis 152 mm und Maskendurchmesser bis 350 mm zu schrubben. 352 bietet einen vollen Bewegungsbereich, der das Schrubben komplexer Strukturen ermöglicht. Rotationsbewegung, vertikale Einstellung und einstellbare Waschgeschwindigkeit können alle genutzt werden, um die Waschleistung zu optimieren. Diese Flexibilität ist nützlich für verschiedene Waschaufgaben wie das Abreinigen dicker Photolackschichten und das Entfernen von Partikeln, ohne empfindliche Strukturen zu beschädigen. Dieser Wafer & Maskenwäscher ist mit zwei leistungsstarken SCR-Motoren ausgestattet und verfügt über eine einstellbare Druck- und Waschsteuerung. Dadurch wird sichergestellt, dass der gesamte Waschvorgang schnell und effektiv ist. Seine robuste Konstruktion und Abschreckwirkung hilft, höchste Sauberkeit und Präzision aufrechtzuerhalten. SCHMID 352 ist mit einem speziellen Evakuierungsarm und einer patentierten doppelseitigen Borstenbürste ausgestattet, um auch unbeholfene Strukturen intensiv zu schrubben. Dies geschieht ohne manuelle Reinigung der Bürste, wodurch die Prozessgeschwindigkeit und -sicherheit verbessert wird. Dieser Wafer & Maskenwäscher ist in der Lage, in einem weiten Temperaturbereich von 14-44 ° C zu arbeiten. Zusätzlich reinigen 352 Eigenschaften 1.000 Liter pro stündiges Wasserreinigungssystem, das die Gestrüpplösung ständig behält, und reiner, abnehmender chemischer Gebrauch und Fußabdruck. Dieses System ist mit einem geschlossenen Filtersystem verbunden, das die Waschlösung recycelt und die Verschmutzung reduziert. Abschließend ist SCHMID 352 wafer & mask scrubber ein hocheffizientes und zuverlässiges Werkzeug, das eine unübertroffene Schrubbleistung bietet. Mit seinem einfachen Design und fortschrittlichen Waschtechnologien bietet es schnelle, flexible und sichere Waschprozesse sowie die Reduzierung von Prozesskosten und Verschmutzung.
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