Gebraucht KLA / TENCOR AIT XUV #9145311 zu verkaufen
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ID: 9145311
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Dark field wafer particle inspection system, 8"
2003 vintage.
KLA/TENCOR AIT XUV ist ein Wafer-Prüf- und Messtechnikgerät für den Einsatz in einer Vielzahl von Industrie- und Halbleiteranwendungen. Es ist ein spezialisiertes bildgebendes und messtechnisches System, das in der Lage ist, eine breite Palette von Materialien und Komponenten genau zu messen und zu überprüfen. KLA AIT XUV basiert auf einer tiefen ultravioletten (DUV) Synchrotronquelle und nutzt wassergekühlte Abbildungsoptiken und fortschrittliche Software, um hochauflösende, berührungslose Bilder und exakte Messungen zu erzeugen. Das Gerät verwendet eine Vielzahl von spezialisierten bildgebenden Technologien, wie Photolithographie, Rasterelektronenmikroskopie und Raman-Spektroskopie. Es kann auch Eigenschafts- und Tiefendefekte erkennen und gleichzeitig eine präzise Messung und Charakterisierung von Oberflächenmerkmalen ermöglichen. TENCOR AIT-XUV wurde entwickelt, um skalierbar zu sein, um verschiedenen Anforderungen gerecht zu werden, so dass Benutzer das beste Leistungsniveau für ihre spezifische Anwendung auswählen können. Es ist auch sehr modular, so dass Benutzer die Maschine an ihre genauen Bedürfnisse anpassen und konfigurieren können. Das Tool bietet Anwendern auch eine Reihe von Automatisierungs- und Softwareoptionen, wie Positionsüberlagerung und automatisierte Fehleranalyse. KLA AIT-XUV umfasst spezielle Werkzeuge zur Überprüfung und Messung von Parametern wie kritischen Abmessungen, Oberflächenstruktur und Überlagerungsgenauigkeit sowie zur Überprüfung von Nanodefekten. Es enthält auch erweiterte Optik und Auflösungen zur Identifizierung und Kategorisierung charakteristischer Merkmale von Materialien. Mit diesen Tools können Anwender die Mikro- und Nanostrukturen von Halbleiterproben präzise analysieren. KLA/TENCOR AIT-XUV eignet sich dank vielseitigem Design und hoher Leistung für eine breite Palette von Industrie- und Halbleiteranwendungen. Es ist in der Lage, feine Details und Sub-Mikron-Merkmale mit Genauigkeit abzubilden und zu charakterisieren. Es ist auch für einen zuverlässigen und langlebigen Betrieb ausgelegt. Es bietet eine ausgezeichnete Flexibilität, so dass es in vielen verschiedenen Kontexten verwendet werden kann, einschließlich Forschung, Produktion und Qualitätskontrolle.
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