Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293586639 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine modulare Nassstation für Halbleiterchip-Hersteller, die eine Vielzahl von Funktionen für ein effektives Wafer-Handling bietet. Es ist für einfache Bedienung, Wartung und technische Unterstützung mit mehreren Sicherheitsfunktionen konzipiert. Das Gerät besteht aus Transfermodul, Großrechner, Umweltkammer und Substratheizmodul. Das Transfermodul ist der Hauptbestandteil des Systems und dient der Übertragung von Wafern zwischen Umweltkammer und Großrechner. Es umfasst einen automatischen Waferausricht- und Nivelliermechanismus, eine Vision-Einheit, ein Vakuumfutter und eine hochauflösende Kamera. Das Transfermodul verfügt über eine integrierte Vision-Maschine, mit der Benutzer Fehler in den Wafern ausrichten und erkennen können. Die im Vision-Tool verwendete Kamera kann zwischen dunklen und hellen Bereichen auf dem Wafer unterscheiden und mechanische Defekte erkennen. Das Vakuumfutter wird verwendet, um Wafer sicher an Ort und Stelle zu halten und der Ausrichtmechanismus ermöglicht es Benutzern, die Waferposition genau einzustellen. Das Mainframe von TEL Expedius verfügt über mehrere Komponenten, die eine präzise Steuerung von Prozesswerkzeugen ermöglichen. Zu diesen Komponenten gehören ein Vision Asset, ein Flüssigkeitsabgabemodell, ein dielektrisches Abgabegerät, ein Controller Board und eine Waver Assembly. Das Vision-System dient der präzisen Steuerung der Prozesswerkzeuge. Es ist in der Lage, Prozessunregelmäßigkeiten oder Anomalien zu erkennen und Echtzeit-Feedback an die Controller zu liefern. Die Flüssigkeitsabgabeeinheit ist für die gleichmäßige Abscheidung von Flüssigkeit während nasser Prozesse verantwortlich. Es wird auch verwendet, um verschiedene Arten von Flüssigkeiten während der Prozessläufe zu liefern und zu lagern. Die dielektrische Fördermaschine dient zur Abgabe gasförmiger Materialien wie Sauerstoff, Chlor und Schwefel. Die Steuerkarte dient zur Steuerung des Anlegens von Spannungen, Strömen und Temperaturen während der Prozessabläufe. Schließlich dient die Waver-Baugruppe zum Transport von Wafern zwischen verschiedenen Prozesswerkzeugen. Die Umgebungskammer des Werkzeugs dient zur Steuerung und Aufrechterhaltung der Eigenschaften der Wafer während der Prozessläufe. Es kann beheizt oder gekühlt werden und die Temperatur kann in einem Bereich von 1-35 Grad Celsius eingestellt werden. Die Feuchtigkeit der Kammer kann auch geregelt werden und es kann verwendet werden, um eine Vielzahl von verschiedenen Materialien zu speichern. Mit dem Substratheizmodul von TOKYO ELECTRON Expedius werden Substrate bei Prozessläufen schnell aufgewärmt. Es hat auch eine Temperaturkontrolle, die die Temperatur in einem Bereich von 10-1000 Grad Celsius regulieren kann. Ein weiteres Hauptmerkmal dieses Moduls ist seine Fähigkeit, schnell zu erwärmen und abkühlen in einem sehr kurzen Zeitraum. Expedius ist eine zuverlässige Nassstation mit einer Reihe von Funktionen, die für Halbleiterchip-Hersteller entwickelt wurden. Seine Eigenschaften ermöglichen es Herstellern, effiziente und genaue Nassprozesse mit minimalem Aufwand und verbesserter Produktqualität durchzuführen. Der modulare Aufbau und die automatisierten Prozesswerkzeuge des Modells bieten Anwendern eine effektive Lösung für die Anforderungen der Chipherstellung.