Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293757165 zu verkaufen
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ID: 293757165
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wet bench, 12"
Process flow: CHCL-CWS-SD2(HF)-SD2(HF)-OF-LAL(HF17%)-HQDR-SC1-HQDR-SPM
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine Art Nassbankstation, die speziell für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde. Es ist für den Einsatz in einer Halbleiterreinraum-Umgebung gedacht, in der eine präzise und zuverlässige Umweltkontrolle zum optimalen Schutz empfindlicher Kassetten und Waferträgerboote vor Partikelverschmutzung erforderlich ist. Die Nassstation ist mit präzisen und zuverlässigen elektromechanischen Clustern ausgestattet und bietet eine präzise Temperatur-, Druck- und Geschwindigkeitsregelung, die eine präzise Ausrichtung, Sauberkeit und Zuverlässigkeit gewährleistet. Die Station verfügt außerdem über eine Wet Cleaning Station (WCS), die eine sichere, kontrollierte und gleichförmige Umgebung für die Reinigung und Trocknung von Wafern bietet. Das WCS nutzt organische alkalische Reiniger, um die Reinigungs- und Trocknungsvorgänge genau zu steuern, während das eingebaute Dry Fill Modul eine optimale Trocknung der Wafer gewährleistet. Die integrierte Hochdruckreinigungsstation beseitigt die Partikelverunreinigung in einem einzigen Verfahren um bis zu 3% und bietet exakte und ausgewogene Temperatureinstellungen, um eine konsistente und konsistente Waferbearbeitung zu gewährleisten. Zu TEL Expedius Nassstation gehört auch ein Graining Ofen-Etcher und Photoresist Treatment Modul, das eine automatisierte, effiziente und konsistente Verarbeitung von Masken, Resists und anderen Verarbeitungsmitteln bietet. Dieses Modul bietet präzise Temperatur- und Druckeinstellungen für den Feinätzprozess und ist auch mit mehreren internen Prüfsystemen ausgestattet. Das Ätz- und Photolackbehandlungsmodul ermöglicht die präzise Gleichmäßigkeit der Ätzlösung auf der Waferoberfläche für gleichbleibend hohe Qualitätsergebnisse. Der integrierte Micro-Gas Injector verhindert zudem eine Verschmutzung der Waferoberfläche während der Prozessschritte durch präzise Injektion von spezialisierten flüchtigen organischen Substanzen. Die Station bietet außerdem automatisierte, genaue und vorgegebene Grenzwerte für Verschmutzer, die maximale Effizienz und Zuverlässigkeit gewährleisten. Darüber hinaus bietet es einen präzisen digitalen Gasinjektorregler und ein Gasverteilungssystem für konsistente Leistung. Schließlich ist die TOKYO ELECTRON Expedius Nassstation mit einer Wafer Acquisition Station (WAS) ausgestattet, die zur sicheren Übertragung von Proben oder Geräten mit minimaler Kontamination bei extrem niedrigen Temperaturen konzipiert ist. WAS beinhaltet einen Verriegelungsmechanismus und einen Ultra-Low-Temperature (ULT) Temperaturregler, mit dem die Prozesstemperatur unter -25 ° C exakt geregelt bleibt. Abschließend bietet Expedius wet station Anwendern eine effiziente, zuverlässige und genaue Methode zum Reinigen, Ätzen und Behandeln von Wafern. Sein ausgeklügeltes Design bietet Anwendern ein All-in-One-Verfahren zur Verarbeitung von Halbleiterbauelementen in einer Reinraumumumgebung und seine integrierten Module zur Verschmutzungsverhinderung, Temperatur- und Druckkontrolle sorgen für eine konstante Leistung.
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