Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9038418 zu verkaufen
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ID: 9038418
Wet benches, 12"
Basic config: Bath configuration: LD-FIMS-SPM-HQDR-SC1-HQDR-SC1-HQDR-FRD-FRD
Load/unload port: 2 (common)
Wafer size: 300 mm
Batch Size: 50 Wafer
Software: SECS2
Mecha: Motor, servo motor
(3) Robots
Chuck: Quartz
SPM Bath: Matrial Quartz
Heater: 6 kw
Filter: 30 nm
Chemical: H2SO4,H2O2
Wafer Guide: Quartz
QDR Btah: Material Quartz
Heater: None
Filter: None
Chemical: DIW.Hot DIW
Wafer Guide: Quartz
SC1 Bath: Material Quarz
Heater: 6 kw
Filter: 30 nm
Chemical: NH4OH,H2O2
Wafer guide: Quartz
HQDR Bath: Material Quartz
Heater: None
Filter: None
Chemical DIW/HOT DIW
FRD Bath: Material PVDF
Chemical IPA, DIW
Wafter Guide: PVDF
2006 vintage..
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine Nassstation zur Halbleiterherstellung und -entwicklung. Es ist eine vielseitige und kostengünstige Lösung für die Verarbeitung von kleinen Halbleiterbauelementen und Wafern. Es ist für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen wie kostengünstige Herstellung, Dünnschichtabscheidung, Lithographie-Bildgebung, Ätzen, chemische Dampfabscheidung (CVD) und Resistverarbeitung konzipiert. TEL Expedius nutzt eine robuste Hardwareplattform und softwaredefinierte Steuerungen, um überlegene Leistung und Durchsatz zu erreichen. TOKYO ELECTRON Expedius ist mit einem Mikrometer-Präzisionswerkzeughalter für genaue Wafer-Handhabung, einer digitalen Bildgebungseinrichtung (DIS), einem Rasterelektronenmikroskop (SEM) für Bildgebung und Messtechnik, einem FEM-optischen digitalen Bildgebungssystem (ODIX X X S) und einer Prozesssteuerung ausgestattet. Die Maschine schließt auch eine variable Hochleistungsfrequenz radiofrequency (RF) Generator, eine Hochleistungshitzequelle und eine Hochleistungspräzision X/Y Bewegungsbühne für die genaue Oblatenverarbeitung, sowie ein Präzisionspuderzuführenwerkzeug ein. Das Asset verfügt zudem über die SDTM-2000 Prozessautomatisierungssoftware zur Prozesssteuerung, Prozessüberwachung und Prozessoptimierung. Die Software wurde entwickelt, um eine optimale Gesamtleistung des Modells zu erreichen, indem Benutzer Prozessparameter wie Gasdruck, Gasdurchfluss und Temperatur überwachen und steuern können, um konsistente Ergebnisse von Wafer zu Wafer zu gewährleisten. Expedius bietet auch erweiterte Prozessverwaltungsfunktionen wie einen Ablaufzeitrekorder, einen Ereigniszähler und ein Prozessprotokoll. Diese Funktionen ermöglichen eine präzise Prozessverfolgung und -optimierung. Zusätzlich unterstützt die Anlage das Be- und Entladen von Proben unabhängig, was den Durchsatz erhöht und höhere Automatisierungsstufen ermöglicht. TEL/TOKYO ELECTRON Expedius wurde entwickelt, um die anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen und bietet überlegene Leistung, Präzision, Wiederholbarkeit und Skalierbarkeit. Es bietet eine kostengünstige Lösung für die Verarbeitung kleiner Halbleiterbauelemente und Wafer und ist eine gute Wahl für jede Nassstationsanwendung in der Industrie.
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