Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9190110 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 9190110
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Clean / Strip system, 12" Processes: SC1 / SPM / BHF Currently warehoused 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine Nassstation, die für mehrere Wafer-Herstellungsverfahren wie Photolithographie, Ätzen, Dünnfilm und physikalische Dampfabscheidung entwickelt wurde. Entwickelt für kleine bis mittlere Produktionen, ist die Nassstation ideal für die Verarbeitung einer Vielzahl von Substraten wie Glas, Aluminium und Silizium. Es verfügt über ein Multi-Bay-Design mit bis zu drei Prozesskammern und umfasst einen Prozessgasschrank und eine Wafer-Transferausrüstung. Das Wafer-Transfersystem verwendet serialisierte Träger für einen sicheren und zuverlässigen Transport des Wafers. Die TEL Expedius Nassstation ist mit einer fortschrittlichen Temperaturregeleinheit ausgestattet, die die Wafertemperatur innerhalb eines vorgeschriebenen Fensters aufrechterhält. Prozessparameter wie Temperatur, Druck und Zeit können von einer einzigen gemeinsamen Benutzeroberfläche aus angepasst werden. Eine Reihe von Prozessrezepten können in den Speicher der Station gespeichert werden, so dass Benutzer jedes Rezept leicht zurückrufen können. Mit einem präzisen Quarzkristallsensor ist eine automatische Prozessdruckkalibrierung möglich, die zu sehr reproduzierbaren Prozessergebnissen führt. TOKYO ELECTRON Expedius Nassstation ist unter Berücksichtigung der gesamten Prozessabdeckung konzipiert. Seine Sicherheits-/Umweltfunktionen umfassen eine flexible Sputterkammer Tür, automatische chemische Durchflussmenge Lieferanten, und Kammer Evakuierung. Eine fortschrittliche chemische Managementmaschine ist ebenfalls verfügbar. Um einen effizienten und sicheren Betrieb zu ermöglichen, bietet die Nassstation Expedius mehrere Funktionen. Ein Kombi-Kopf-Roboterwerkzeug bietet eine geringe Wahrscheinlichkeit für Partikelverunreinigungen beim Wafer-Transfer. Eine eingebaute Partikelüberwachung und Partikeleindämmung verhindert, dass Partikel die empfindlichen Bereiche des Wafers erreichen. Die Nassstation verfügt zudem über industrietaugliche Robotik, automatisierte manuelle Düsensysteme, flexible Wafer-Handler und effiziente Robotersteuerungssoftware. Für eine überlegene Prozessüberwachung umfasst die Nassstation TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ein integriertes Lasermessmodell, das mehrere Parameter in den Bearbeitungskammern überwacht. Auch Datenlogger, Sensoren und ein integriertes Reporting-Equipment gehören zum Paket. Diese Funktionen bieten zusammen eine vollständige, Echtzeit-Prozesssteuerung und effizientes Prozess-Debugging. Abschließend umfasst TEL Expedius eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen, die zuverlässige und reproduzierbare Ergebnisse gewährleisten. Mit umfassenden Sicherheits-/Umweltfunktionen und Prozessüberwachungsfunktionen bietet es eine der besten Nassstationslösungen auf dem Markt.
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