Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9211149 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine Nassstation zur präzisen Erwärmung und Kühlung von Substraten während aller Stufen der Halbleiterherstellung. Die Ausrüstung bietet ein hohes Maß an Genauigkeit und Zuverlässigkeit, so dass Benutzer die höchste Prozesskontrolle und Produktivität beibehalten können. Das System nutzt eine programmierbare Abtast-, Präzisionsheiz- und Kühlplattform sowie eine geschlossene thermische Steuereinheit, um die Toleranzen empfindlicher Substrate effizient einzuhalten. Das Abtastelement der Maschine ermöglicht eine schnelle und genaue Temperaturregelung in der Ebene bis 2000 ° C. Mit Hilfe eines 2-stufigen Verfahrens kalibriert das Abtastwerkzeug zunächst die Substrattemperatur auf einen exakten Sollwert und nutzt dann kurze Zyklen von Kühlung und Erwärmung, um eine genaue Kontrolle der Substrattemperatur zu gewährleisten. Um sicherzustellen, dass das Substrat eine konstante Temperatur aufrechterhält, verfügt TEL Expedius über eine geschlossene thermische Steuerung. Dieses Modell verwendet einen berührungslosen Infrarotsensor zur Messung der Substrattemperatur und korrigiert diese automatisch auf ein vordefiniertes Niveau. Das Gerät bietet auch Temperatur-Feedback für Echtzeit-Einstellbarkeit. Neben der schnellen und genauen Temperaturregelung bietet das System eine einfach zu bedienende Schnittstelle. Die benutzerfreundliche Software ermöglicht eine schnelle und einfache Bedienung des Geräts sowie Datenerfassung und Maschinensteuerung. Die Software ermöglicht auch die Fernwartung und den Betrieb über Ethernet, was jedem Unternehmen mit mehreren TOKYO ELECTRON Expedius Tools Komfort bietet. Die Anlage ist flexibel gestaltet und kann für verschiedene Produktionsanforderungen angepasst werden. Es kann durch die Konfiguration von Teilsystemen wie Prozesskammern, Scanner, Stromversorgung und Kühlung auf die spezifischen Anforderungen des Benutzers zugeschnitten werden. Expedius ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur präzisen Erwärmung und Kühlung von Substraten während aller Stufen der Halbleiterherstellung. Die programmierbare Abtast-, Präzisionsheiz- und Kühlplattform sowie das thermische Regelmodell sorgen dafür, dass Substrate in einem präzisen Temperaturbereich gehalten werden und somit eine präzise Steuerung des Prozesses und maximale Produktivität gewährleistet ist.