Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353489 zu verkaufen
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ID: 9353489
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
Wet bench, 12"
Process: MRCA Pre-clean
Load port
Transfer module
SD2
SC1 (M/S)
DHF
Power box
O3 Generator
Fire extinguisher
(3) MIKRO Sonic
(2) U02800PMCA
U02400PMAM
Light tower
Fire extinguisher light
Alarm rotating light
Yellow alarm light
Exhaust / Drain box
(2) Exhaust assy
(4) Clear plastic cover (Middle)
(8) Plastic cover (Top)
Water pipe assy
Robot track assy
(2) Auto L type
Foot stool assy
KOMATSU GRS-612
KOMATSU AIC-7-12-T1
(2) Air driven pump controllers
(6) Step frames
(5) White covers
Top frame
HORIBA Assy
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Proportion: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 L/Min
Hot DIW: 40-60 L / Min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 55°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:100
Megasonic: SSDM 2800 W
FF-20BT1 Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
Filter: QCCZATM01K, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
QDR:
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 l/min
DHF:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold CIW: 40-60 l/min
Mixing ratio: DHF:H2O, 1:25
FF-20BT1 Pump
COOLNICS Heater
Filter: IHIG01M01K, 0.2 µm
CM-210-05 Concentration monitor
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine nasse Prozessstation, die den Anforderungen chemischer Nassverarbeitungsanwendungen gerecht wird. Es ist eine hochautomatisierte Ausrüstung, die einen fortschrittlichen Waferübertragungsmechanismus mit einem anpassbaren Modulsystem kombiniert. TEL Expedius eignet sich für eine breite Palette von Prozessmodulen, von einer herkömmlichen Batch-Taucheinheit bis hin zu einer Single-Wafer-Maschine, mit der Kunden ihren Prozess nach bestem Wissen und Gewissen optimieren können. Eines der innovativeren Merkmale des TOKYO ELECTRON Expedius-Tools ist sein fortschrittliches Wafer-Transfermodul. Diese Anlage ist darauf ausgelegt, Wafer schnell und effizient zwischen mehreren Kammern zu übertragen, wodurch die Wafer in viel kürzerer Zeit bearbeitet werden können. Dieses Modul bietet auch eine größere Genauigkeit und Kontrolle bei der Handhabung von Wafern. Darüber hinaus verwendet Expedius-Modell auch einen Roboterarm, um die Wafer genau zu positionieren, wodurch die Möglichkeit einer mechanischen Beschädigung minimiert wird. Die modulare Ausstattung von TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ermöglicht es, das System so anzupassen, dass es den Bedürfnissen jedes Kunden am besten entspricht. Die in einer TEL Expedius-Einheit einsetzbaren Module umfassen ein Tauchbeschichtungsmodul für Tauchscheiben, ein Tensideintauchmodul für die Oberflächenbehandlung, ein Nassätzmodul für die Ätzung und ein Photoresist-Beschichtungsmodul. TOKYO ELECTRON Expedius Maschine enthält auch ein integriertes Softwarepaket, mit dem Benutzer ihre Prozesseffizienz maximieren können, indem sie die Programmierung des Roboterarms anpassen. Die Software kann auch verwendet werden, um detaillierte Berichte über die Prozessergebnisse zu erstellen und eine Echtzeit-Überwachung des Prozesses zu ermöglichen. Das Gerät verfügt außerdem über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, die es zu einem der sichersten und zuverlässigsten Nassprozesssysteme machen. Es ist mit einem Strahlenschutzschild, einem hocheffizienten Gasvorhang und einem integrierten Werkzeug ausgestattet, das die Machinen stoppt, wenn ein Sicherheitsparameter verletzt wird. Expedius Asset ist hocheffizient und bietet eine zuverlässige und sichere Umgebung für die Nassverarbeitung. Es ist eines der modernsten und anpassbaren Systeme, die in der Lage ist, den chemischen Nassreinigungsprozess zu optimieren und die gewünschten Ergebnisse zu erzielen.
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