Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353490 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Expedius
ID: 9353490
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wet bench, 12" Process: MRCA Pre-clean Load port SC1 (M/S) DHF Power box O3 Generator Fire extinguisher (3) MIKRO Sonic (2) U02800PMCA U02400PMAM Light tower Fire extinguisher light Alarm rotating light Yellow alarm light Exhaust / Drain box (2) Exhaust assy (4) Clear plastic cover (Middle) (8) Plastic cover (Top) Water pipe assy Robot track assy (2) Auto L type Foot stool assy KOMATSU GRS-612 KOMATSU AIC-7-12-T1 (2) Air driven pump controllers (6) Step frames (5) White covers Top frame HORIBA Assy Load / Unload module: Transfer module: Tank SD2 (Dryer): Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold DIW: 40-60 L / Min POU (M/S): Guide material: QUARTZ Process bath material: QUARTZ Temperature: 70°C Proportion: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000 Megasonic: SSDM 2800 W Cold DIW: 40-60 L / Min Hot DIW: 40-60 L / Min Heater CEH-480 Concentration monitor SC1 (M/S): Guide material: Quartz Process bath material: PTFE Temperature: 55°C Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:100 Mega sonic: SSDM 2800W FF-20BT1 Pump AIH-124QS CS Heater with WJ Filter: QCCZATM01K, 0.05 µm HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor QDR: Process bath material: QUARTZ Cold CIW: 40-60 L / Min DHF: Guide material: PCTFE Process bath material: PTFE Cold CIW: 40-60 L / Min Mixing ratio: DHF:H2O, 1:25 FF-20BT1 Pump COOLNICS Heater Filter: IHIG01M01K, 0.2 µm CM-210-05 Concentration monitor 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius Nassstation ist eine speziell für die Halbleiterindustrie entwickelte Nassverarbeitungsstation. Die Station ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um eine optimale, sichere und effiziente Nassverarbeitung zu gewährleisten. Eine der definierenden Funktionen der Station sind die Funktionen mehrerer Prozessmodule. Es hält bis zu drei Prozessmodule in einer Station, so dass mehrere Nassverarbeitungsvorgänge parallel durchgeführt werden können. Jedes Arbeitsmodul verfügt über einen eigenen unabhängigen Pumpenkopf, der eine unabhängige Kontrolle über jeden Prozess bieten kann. Zusätzlich hat die Station Sicherheitsfunktionen eingebaut, um versehentliche Explosionen und Überdruckbeaufschlagung der Kammer zu verhindern. Die Station enthält außerdem einen Lösungsmittel-, Edelstahlsumpf und Abgasauslässe zur Filterung von Flüssigkeiten während der Verarbeitung. Die Station verfügt über einen Temperatur- und Feuchtigkeitsregler zur präzisen Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung während des Nassverarbeitungsvorgangs. Dadurch wird sichergestellt, dass die Verarbeitungsbedingungen für die Durchführung von Prozessen wie Nassreinigung, Ätzen und Beschichtung optimal sind. Darüber hinaus ist die Station mit einer fortschrittlichen automatischen Steuerung ausgestattet. Dazu gehören Funktionen wie programmierbare Prozessrezepte, ein programmierbares Alarmsystem und Datenerfassungsfunktionen. Die Station ist auch kompatibel mit verschiedenen Ausgabesystemen, einschließlich Ausgabearmen, Mikropipetten und Robotersystemen. Dies ermöglicht eine präzise und genaue Abgabe von Chemikalien, was für wiederholbare und konsistente Ergebnisse unerlässlich ist. Die Station bietet zudem ein intuitives und benutzerfreundliches Display. Diese Anzeige liefert jederzeit Echtzeitinformationen über den Zustand des Wafers, einschließlich seiner aktuellen Temperatur-, Druck- und Prozessgrößen. Darüber hinaus kann die Station remote betrieben werden, einschließlich über Ethernet- oder Wi-Fi-Verbindungen, wodurch sie ideal für In-situ- oder Remote-Anwendungen geeignet ist. Insgesamt ist die Nassstation TEL Expedius eine ideale Lösung für die Nassverarbeitung. Mit seinen vielfältigen Prozessmodulen, der Temperatur- und Feuchtesteuerung, der automatischen Steuerung und der Maschinenkompatibilität ist diese Nassverarbeitungsstation effizient und zuverlässig. Ob in-situ oder remote, TOKYO ELECTRON Expedius ist eine großartige Lösung, um Nassverarbeitungsanforderungen zu erfüllen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor