Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353490 zu verkaufen
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ID: 9353490
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wet bench, 12"
Process: MRCA Pre-clean
Load port
SC1 (M/S)
DHF
Power box
O3 Generator
Fire extinguisher
(3) MIKRO Sonic
(2) U02800PMCA
U02400PMAM
Light tower
Fire extinguisher light
Alarm rotating light
Yellow alarm light
Exhaust / Drain box
(2) Exhaust assy
(4) Clear plastic cover (Middle)
(8) Plastic cover (Top)
Water pipe assy
Robot track assy
(2) Auto L type
Foot stool assy
KOMATSU GRS-612
KOMATSU AIC-7-12-T1
(2) Air driven pump controllers
(6) Step frames
(5) White covers
Top frame
HORIBA Assy
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 L / Min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 70°C
Proportion: HCL:H2O, 1:500 / 1:1000
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 L / Min
Hot DIW: 40-60 L / Min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: Quartz
Process bath material: PTFE
Temperature: 55°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O, 2:3:100
Mega sonic: SSDM 2800W
FF-20BT1 Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
Filter: QCCZATM01K, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
QDR:
Process bath material: QUARTZ
Cold CIW: 40-60 L / Min
DHF:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold CIW: 40-60 L / Min
Mixing ratio: DHF:H2O, 1:25
FF-20BT1 Pump
COOLNICS Heater
Filter: IHIG01M01K, 0.2 µm
CM-210-05 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius Nassstation ist eine speziell für die Halbleiterindustrie entwickelte Nassverarbeitungsstation. Die Station ist mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet, um eine optimale, sichere und effiziente Nassverarbeitung zu gewährleisten. Eine der definierenden Funktionen der Station sind die Funktionen mehrerer Prozessmodule. Es hält bis zu drei Prozessmodule in einer Station, so dass mehrere Nassverarbeitungsvorgänge parallel durchgeführt werden können. Jedes Arbeitsmodul verfügt über einen eigenen unabhängigen Pumpenkopf, der eine unabhängige Kontrolle über jeden Prozess bieten kann. Zusätzlich hat die Station Sicherheitsfunktionen eingebaut, um versehentliche Explosionen und Überdruckbeaufschlagung der Kammer zu verhindern. Die Station enthält außerdem einen Lösungsmittel-, Edelstahlsumpf und Abgasauslässe zur Filterung von Flüssigkeiten während der Verarbeitung. Die Station verfügt über einen Temperatur- und Feuchtigkeitsregler zur präzisen Temperatur- und Feuchtigkeitsregelung während des Nassverarbeitungsvorgangs. Dadurch wird sichergestellt, dass die Verarbeitungsbedingungen für die Durchführung von Prozessen wie Nassreinigung, Ätzen und Beschichtung optimal sind. Darüber hinaus ist die Station mit einer fortschrittlichen automatischen Steuerung ausgestattet. Dazu gehören Funktionen wie programmierbare Prozessrezepte, ein programmierbares Alarmsystem und Datenerfassungsfunktionen. Die Station ist auch kompatibel mit verschiedenen Ausgabesystemen, einschließlich Ausgabearmen, Mikropipetten und Robotersystemen. Dies ermöglicht eine präzise und genaue Abgabe von Chemikalien, was für wiederholbare und konsistente Ergebnisse unerlässlich ist. Die Station bietet zudem ein intuitives und benutzerfreundliches Display. Diese Anzeige liefert jederzeit Echtzeitinformationen über den Zustand des Wafers, einschließlich seiner aktuellen Temperatur-, Druck- und Prozessgrößen. Darüber hinaus kann die Station remote betrieben werden, einschließlich über Ethernet- oder Wi-Fi-Verbindungen, wodurch sie ideal für In-situ- oder Remote-Anwendungen geeignet ist. Insgesamt ist die Nassstation TEL Expedius eine ideale Lösung für die Nassverarbeitung. Mit seinen vielfältigen Prozessmodulen, der Temperatur- und Feuchtesteuerung, der automatischen Steuerung und der Maschinenkompatibilität ist diese Nassverarbeitungsstation effizient und zuverlässig. Ob in-situ oder remote, TOKYO ELECTRON Expedius ist eine großartige Lösung, um Nassverarbeitungsanforderungen zu erfüllen.
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