Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9353550 zu verkaufen
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ID: 9353550
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wet bench, 12"
Process: SPMC PR-Strip
Load / Unload module:
Transfer module:
Tank SD2 (Dryer):
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
POU (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Mixing ratio: HF:H2O, 1:500 / 1:1000
Megasonic: SSDM 2800 W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
HF-960M Concentration monitor
SC1 (M/S):
Guide material: QUARTZ
Process bath material: PTFE
Temperature: 35°C
Mixing ratio: NH3OH:H2O2:H2O
Megasonic: SSDM 2800 W
IWAKI FW-40-T Pump
AIH-124QS CS Heater with WJ
TRCXATEB1K Filter, 0.02 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
HQDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Temperature: 65°C
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
SPTRVXATE4SM:
Guide material: QUARTZ
Process bath material: QUARTZ
Temperature: 110°C
Mixing ratio: H2S04:H2O, 5:1
Cold CIW: 40-60 l/min
NSPH-55KML Pump
COOLNICS AIH-64QS Heater
(2) LDFHTIGPK16E72-K7 Filters, 0.2 µm
HORIBA CS-150 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine Nassstation, eine Art von Halbleiterbauelementherstellungsgeräten, die in der Halbleiterverarbeitung verwendet werden. Es ist in der Lage, mehrere Prozesse wie chemische Dampfabscheidung (CVD), elektrochemische Abscheidung (ECD), physikalische Dampfabscheidung (PVD) und andere zu handhaben. Es wird hauptsächlich zur Herstellung von IC-Chips verwendet. Die Nassstation wurde entwickelt, um den Anforderungen moderner Halbleitertechnologien gerecht zu werden und bietet eine Reihe von Optionen, um die verschiedenen Anforderungen des Produktionsprozesses zu erfüllen. Das Kernsystem für die Nassstation besteht aus einem Prozessor, einem Controller und einer Human-Machine Interface (HMI), die es dem Bediener ermöglichen, die Prozessschritte manuell zu steuern. Der Prozessor und die Steuerung sind für die Steuerung der verschiedenen Parameter verantwortlich, die den Prozess regeln, und für die Anpassung der verschiedenen Parameter während des Prozesses. Dazu gehört die Einstellung der richtigen Temperatur- und Druckwerte, um die Gleichmäßigkeit des Prozesses über den gesamten Wafer zu gewährleisten. Das HMI ermöglicht es dem Bediener, die Prozessumgebung einzurichten und die erforderlichen Prozesse auszuführen. Neben dem Prozessor und der Steuerung verfügt die Nassstation über verschiedene Reinigungssysteme, um unerwünschte Verunreinigungen zu entfernen, die die Verarbeitbarkeit und Leistung der IC-Chips beeinträchtigen können. Diese Systeme sind speziell für die Verwendung von filtrierten Gasen, speziellen Lösungsmitteln, Aerosolen und anderen Reinigungsmitteln konzipiert. Für die Prozesssteuerung nutzt TEL Expedius eine Vielzahl von messtechnischen Geräten. Dazu gehören optische Inspektionswerkzeuge, ein Gaszerstäuber und verschiedene Arten von Profilmesswerkzeugen. Die Messtechnik dient zur Messung der Prozessergebnisse, wie der Mustereigenschaften und der Schichtdicke. Mit diesen Informationen werden dann ggf. die Prozessparameter eingestellt, um die gewünschten Ergebnisse zu erzielen. TOKYO ELECTRON Expedius verfügt über eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie Branderkennung, Temperatur- und Drucksensoren sowie Luftströmungssensoren. Alle diese Maßnahmen sollen dem Bediener eine sichere Arbeitsumgebung bieten. Expedius ist eine leistungsstarke und zuverlässige Nassstation. Es ist in der Lage, hochwertige IC-Chips mit präziser Prozesssteuerung zu produzieren. Das Spektrum an Prozessoptionen und messtechnischen Geräten ermöglicht dem Bediener eine gleichmäßige und präzise Ausgabe. Die Sicherheitsmerkmale gewährleisten eine sichere Arbeitsumgebung für den Bediener, während das Gerät selbst eine robuste und zuverlässige Leistung für eine effiziente IC-Chipherstellung bietet.
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