Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius+ #9375199 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius + ist eine Nassstation, die die Abscheidung dünner Filme auf einer Vielzahl von Substraten ermöglicht, die von nanoskaligen und mikrometerskalierten Geräten reichen. Diese Nassstation eignet sich für Anwendungen wie Aufdampfen, elektrochemische Abscheidung, galvanische Abscheidung, chemische Beschichtung, Anodisierung und vieles mehr. Primärkomponente der Station ist der Naßabscheideabschnitt, der aus einer großformatigen Prozesskammer und einem Naßverarbeitungsmodul besteht. Die Abscheidekammer ist mit Heizelementen, Sensoren, einer Abgasöffnung und zwei kreisrunden Quarzzylindern ausgestattet. Die Prozesskammer ist in der Lage, Vakuum, Überdruck und atmosphärischen Betrieb. Seine große zylindrische Größe ermöglicht die Verarbeitung unterschiedlicher Substratgrößen und -formen. Das der Abscheidekammer benachbarte Nassverarbeitungsmodul umfasst ein Reaktionsgefäß mit großem Durchmesser, ein eingebautes Kühlsystem und mehrere Eingangsöffnungen für Zufuhr und Abgase. Das Reaktionsgefäß ist für eine Vielzahl von Badmassen für verschiedene Abscheidungstechniken ausgelegt. Die Temperatur des Reaktionsgefäßes kann entsprechend der gewünschten Verfahrensweise eingestellt werden. Das eingebaute Kühlsystem soll verhindern, dass sich Ablagerungen auf der Oberfläche des Wafers ansammeln. Die Abscheidekammer und das Naßverarbeitungsmodul sind durch ein mehrschichtiges elektrostatisches Feld mit eingebautem elektrostatischen Schild verbunden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Prozessumgebung, die abgeschiedene Lösung und die Substrate während des gesamten Abscheideprozesses isoliert und frei von Verunreinigungen bleiben. Ein dediziertes Bedienfeld, das sich an der Rückseite der Station befindet, ermöglicht es Benutzern, Parameter wie Temperatur, Druck und andere Prozessvariablen einfach anzupassen. TEL Expedius + Station ist in der Lage, extrem dünne Filme mit überlegener Qualität und Gleichmäßigkeit abzulegen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Anwendungen wie fortschrittliche Lithographie und Nanotechnologie. Darüber hinaus ermöglicht es das spezialisierte Design und die Fähigkeit, Reaktionen automatisch zu überwachen und zu steuern, mehrere Aufträge mit minimalem Engagement in die Warteschlange zu stellen. Es ist eine kostengünstige Lösung für viele Abscheidungsbedürfnisse.