Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9376105 zu verkaufen
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ID: 9376105
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wet bench, 12"
Process: MRCA Pre-clean
Load / Unload module
Transfer module
Tank SD2 (Dryer)
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Cold DIW: 40-60 l/min
M/S POU:
Guide material: Quartz
Process bath material: Quartz
Temperature: 70°C
Proportion: HCL: H2O, 1:500 / 1:1000
Mega sonic: SSDM 2800W
Cold DIW: 40-60 l/min
Hot DIW: 40-60 l/min
Heater
CEH-480 Concentration monitor
O3 Water generator
SC1 (M/S):
Guide material: Quartz
Process bath material: PTFE
Temperature: 55°C
Mixing ratio: NH3OH: H2O2:H2O, 2:3:100
Mega sonic: DM 4800W
FF-20BT1 Pump
CS Heater
QCCZATM0IK Filter, 0.05 µm
HORIBA CS-131-0510 Concentration monitor
QDR:
Guide material: PCTFE
Process bath material: Quartz
Cold CIW: 40-60 L/Min
DHF:
Guide material: PCTFE
Process bath material: PTFE
Mixing ratio: DHF: H2O, 1:25
FF-20BT1 Pump
COOLNICS Heater
IHIG01M01K Filter, 0.2 µm
CM-210-05 Concentration monitor
2006 vintage.
TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON Expedius ist eine Nassstation für Halbleiterherstellungsprozesse. Diese Plattform ist speziell für die Durchführung von Ätz- und Abscheidungsprozessen konzipiert, die präzise und wiederholbare Ergebnisse wie Sputtern, thermische Oxidation, chemische Dampfabscheidung (CVD) und reaktives Ionenätzen (RIE) erfordern. Die Plattform ist mit einer In-situ-Ätz- und Abscheideausrüstung ausgestattet, die eine genaue Schichtsteuerung und schnellere Durchlaufzeiten ermöglicht. Diese Plattform ist sehr zuverlässig und kritische Komponenten werden strengen Tests unterzogen, um maximale Prozessleistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. TEL Expedius Platform wurde entwickelt, um maximale Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit zu bieten. Mit einer großen Vakuummatrix bietet die Plattform eine präzise Gasverteilung für Prozesse wie Sputtern, CVD und RIET. Zusätzlich ist das energetische Ätz- und Abscheidungssystem mit einer einzigartigen Gaseinspritzeinheit ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, hochentwickelte Ätz- und Abscheidungsprozesse durchzuführen. Diese Gaseinspritzmaschine ermöglicht es dem Benutzer auch, beliebige Formen des gewünschten Materials auf dem Substrat abzuscheiden. Zu den Vorteilen der Verwendung der TOKYO ELECTRON Expedius Plattform gehören eine gute Haftung von Ausgangsmaterialien für komplexe Prozesse wie Sputtern und Hetero-Epitaxie sowie eine hervorragende thermische Gleichmäßigkeit für CVD und RIET. Das Werkzeug ist auch mit fortschrittlichen Temperaturregelkomponenten zur präzisen Temperaturregelung ausgestattet. Darüber hinaus sorgen die überlegenen Substrathalter der Plattform und die widerstandsfähige Substratheizung für eine wiederholbare und genaue Erwärmung des Substrats. Expedius-Plattform ist sehr anpassbar, so dass Benutzer eine breite Palette von Asset-Optionen auswählen können. Die Plattform ist so konzipiert, dass sie aktualisierbar ist, sodass Benutzer bei der Entwicklung ihrer Anforderungen und Prozesse anspruchsvollere Systeme erstellen können. Darüber hinaus verfügt die Plattform über ein benutzerfreundliches Softwarepaket, mit dem Benutzer die Prozesse anpassen und neue Rezepte schnell und einfach erstellen können. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON Expedius eine fortschrittliche Nassstation, die eine vielseitige und zuverlässige Plattform für anspruchsvolle Ätz- und Abscheidungsprozesse bietet. Seine große Vakuum-Matrix und Energie-Injektor bieten eine große Prozesssteuerung, während seine temperaturgesteuerten Komponenten Wiederholbarkeit und Genauigkeit gewährleisten. Die Plattform ist hochgradig anpassbar und erweiterbar, was sie zu einer ausgezeichneten Wahl für diejenigen macht, die erweiterte Ätz- und Ablagerungsfunktionen suchen.
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