Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9196871 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der in der Halbleiterindustrie häufig zur Abscheidung hochwertiger konformer Filme auf Substraten verwendet wird. Das CVD-Verfahren beinhaltet die Umwandlung einer Materiephase, typischerweise einer Gas- oder Dampfphase, in einen dünnen festen Film. AMAT CENTURA ist speziell mit einer großen Quarzreaktionskammer ausgestattet, die Vorstufen effizient über ein bestimmtes Substrat verteilt. Darüber hinaus wird eine präzise Steuerung des Prozesses durch die integrierte Heizung und die zugehörigen Temperaturregelungssysteme ermöglicht, was eine Schichtdickenregelung und Gleichmäßigkeit unter Vakuumbedingungen ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN CENTURA ist ein metall-organischer chemischer Dampfabscheidungsreaktor (MOCVD), der eine unabhängige Zonentemperaturregelung ermöglicht. Dies wird durch eine Mehrzonen-HF-Vorspannung erreicht, die eine präzise Erwärmung über einen weiten Temperaturbereich von 100 Grad bis 1000 Grad Celsius anwendet. Ebenso wird eine saubere und präzise thermische Taktung während des Abscheideprozesses aufrechterhalten. Darüber hinaus ermöglicht sein Quarzprozesskammervolumen eine größere Verarbeitung und Abscheidung von Filmen, die für MEMS (microelectromechanical systems) sowie andere Anwendungen benötigt werden. CENTURA wurde für Anwendungen entwickelt, die eine konforme Abscheidung von dünnen Filmen erfordern, einschließlich Siliziumnitrid, Polysilizium und vielen anderen Folien, die einheitliche und wiederholbare Abscheidungsprozesse erfordern. AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA ermöglicht ein hohes Maß an Flexibilität in Bezug auf die im Abscheidungsprozess verwendeten Materialien. Es kann mit einer Vielzahl von Vorläufern verwendet werden, einschließlich der für Silizium, Germanium, Germanium-Silizium, induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) und Hochtemperatur-Metall-organische chemische Dampfabscheidung (HTMOCVD) notwendigen. Darüber hinaus unterstützt AMAT CENTURA verschiedene Arten von Abscheidungszyklen, wie Hochdruck Fast Thermal Chemical Vapor Deposition (FTCVD) und Niederdruck Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). Angewandte Materialien CENTURA ist auch mit mehreren Quellen der Rückkopplung und Messtechnik wie einem großen Quarz-Sichtfenster, Pyrometer und Heißdraht-Anemometer ausgestattet. Diese ermöglichen es dem Benutzer, die Abscheideparameter nach Bedarf zu überwachen und anzupassen. CENTURA ist in mehreren Größen erhältlich, um spezifischen industriellen Anforderungen gerecht zu werden. Darüber hinaus ist die Konfiguration des Reaktors vollständig anpassbar, was spezifische Materialanforderungen ermöglicht. Die Zuverlässigkeit und Wirtschaftlichkeit von AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA machen es besonders attraktiv für die Halbleiterindustrie.