Gebraucht KLA / TENCOR SP1-DLS #9211112 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9211112
Wafer surface analysis system, 12"
With backside inspection module
Includes:
Defect sensitivity: .050 um
Enhanced edge exclusion
Enhanced rough film sensitivity
Argon ion laser: 488 nm
(4) Dark field collection channels:
Normal wide
Normal narrow
Oblique wide
Oblique narrow
RTDC
Map to map
Measurement chamber with ULPA filter and blower unit
Operator interface
Operating system: Microsoft windows NT 4.0
Interactive pointing device
Keypad controls
TFT Flat panel display, 18"
Parallel printer port
Defect map and histogram with zoom
Microview measurement capability
Part number / Description
0042021-000 / Edge handling 12"
0042027-000 / Dual FIMS 12", bulkhead with backside inspection module, dual FOUP Handling module ASYST, edge handling, bulkhead mounted with dual UI, FLECWA
0025832-000 / 45A/250V, Domestic voltage requirement
547301 / Bulkhead UI, dual FIMS, SP1
571237 / System, DLS
571075 / Bright field, dual plane bright field, run simultaneously with dark field normal / Dark field oblique
515990 / XY Coordinate
570133 / 4 Color light tower
0028618-000 / Backside inspection option, backside inspection module requires edge handling
CALCURV-SPO3 / Cal curve oblique, 12"
543047-12 / SP1 DLS Conformance test document (CTD)
528080 / HSMS
RFE5-18036 / E87 Carrier management services
RFE55-20835 / E 40 / E 94 Process job management / Control job management and E 90 Substrate tracking
0043182-000 / Carrier ID hermos single wire
2002 vintage.
KLA/TENCOR SP1-DLS ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine schnelle, zerstörungsfreie Analyse von Masken und Wafern ermöglicht. Es basiert auf dem MCD (Multi-Chromatic Differential Defect) -System, das eine Kombination aus hellen und dunklen Feldansichten verwendet, um kleine Fehler schnell und genau zu erkennen. Die Einheit besteht aus mehreren Hauptkomponenten: der Abbildungsoptik, dem Abbildungssensor und dem Controller. Die Abbildungsoptik umfasst drei Iris, zwei Objektive, zwei Filter und eine Mikrolinsen-Array-Platine. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um die Auflösung und den Kontrast der untersuchten Proben zu maximieren und sind speziell darauf ausgelegt, die Effizienz der MCD-basierten Detektion zu maximieren. Die Optik bietet auch Fokus und Vergrößerung für präzise Bildaufnahme. Der bildgebende Sensor ist hinter der Optik positioniert und arbeitet mit der Optik zusammen, um die Probenbilder zu erfassen. Es handelt sich um eine Zeilenkamera, die bis zu 16 Millionen Pixel aufnehmen kann. Diese Maschine bietet schnelle, hochauflösende Bildgebung für die Masken- und Waferinspektion. Der Controller ist ein fortschrittlicher Bildverarbeitungsprozessor, der speziell für die Arbeit mit dem KLA SP1 DLS-Tool entwickelt wurde. Es ist für die Verwaltung der Bilderfassung, die Verarbeitung der Bilder und die Ergebnisberichterstattung verantwortlich. Es verfügt über Druckknopfbetrieb, schnelle Bilderfassung und umfassende Fehlerberichterstattung für erhöhte Genauigkeit und Wiederholbarkeit. TENCOR SP 1-DLS ist ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug zur zerstörungsfreien Masken- und Waferinspektion. Die MCD-basierte Erkennungsanlage bietet eine schnelle und genaue Fehleranalyse, während die umfassende Bildgebungsoptik und der bildgebende Sensor die Auflösung und den Kontrast der zu untersuchenden Bilder maximieren. Der auf Bildverarbeitung basierende Controller sorgt für eine schnelle und effiziente Bildverarbeitung und detaillierte Fehlerberichterstattung. Mit all diesen Komponenten zusammenarbeiten, KLA SP1-DLS Modell ist perfekt für Anwendungen, die schnelle, genaue Inspektion erfordern.
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