Gebraucht CANON FPA 3000 i4 #9384534 zu verkaufen

CANON FPA 3000 i4 ist ein fortschrittlicher und effizienter Wafer-Stepper, der eine optische Ultraviolettprojektionsausrüstung und moderne Lithographietechnologien verwendet, um Photomasken genau auf die Wafer zu strukturieren. Dieses fortschrittliche Gerät bietet eine Reihe von Funktionen, um Fehler zu minimieren, den Prozessdurchsatz zu maximieren und einen schnellen Durchsatz zu erzielen, der die gesamte Verarbeitungszeit verringern und folglich die Geräteausbeute verbessern kann. Der Stepper verwendet die Kombination von Linsenelementen mit einem fortschrittlichen Scanner, um die höchstmögliche Genauigkeit zu erreichen. Die Linsenelemente geben dem Gerät eine numerische Apertur bis zu 0,72 und bieten ein hochmodernes Entmagnifizierungsverhältnis von 1 bis 4. Der Stepper ist auch in der Lage, sowohl positive als auch negative Kontrastresistentypen zu verarbeiten und Musterüberlagerungen sowohl bei hohen als auch bei niedrigen Lichtintensitäten zu erzielen. Das Gerät verfügt über ein verbessertes optisches System, das kleine Merkmale, wie zeilenseitige Kanten, und eine große Polarisation, Abflachung und Gleichmäßigkeit auf dem bildgebenden Feld bietet. Darüber hinaus weist sie einen halbweidigen Einfall auf, der die Lichtausnutzung der Linsen verbessert und die Überlappung von Photomasken deutlich reduziert. Dadurch eignet sich das Gerät für eine Vielzahl von Photomasken und noch komplizierteren Mustern. CANON FPA-3000I4 ist mit Musterausrichtungssystemen ausgestattet, die es ermöglichen, die Bildgebung von Rahmen und Feldern genau zu verarbeiten. Für die Bild- bzw. Feldabbildung werden zwei Musterausrichtungssysteme verwendet. Die Rahmenausrichtungseinheit ist in der Lage, den gesamten Rahmen durch Vergleich von drei Punkten auszurichten, und die Feldausrichtungsmaschine kann kleinere Merkmale im Vergleich zum Rahmenausrichtungswerkzeug identifizieren. Das Gerät bietet auch eine Reihe von Optionen für Reticle-Scan, Ablenkung und Fokussierung, einschließlich hocheffizienter rechteckiger Abtastoptik, Hochleistungsablenkoptik und hochpräziser Autofokusoptik. Zusammen ermöglichen diese Merkmale dem Gerät, eine Vielzahl von Mustern mit einem großen Toleranzspielraum und hoher Genauigkeit zu verarbeiten. FPA 3000I4 bietet zudem ein robustes Lithographieverfahren, das ein wichtiges Merkmal ist, da Lithographie der Kern des Geräts ist. Die im Gerät verwendeten luftgekühlten Lampen erzeugen ein tiefes UV-Licht, um Muster auf den Photomasken zu erzeugen, was das Risiko von Defekten verringert. Darüber hinaus können die Lampen auch effizient ausgetauscht werden, ohne dass eine Ausrichtung oder Einstellung einer anderen Optik erforderlich ist. Insgesamt ist FPA-3000 I 4 ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der eine Reihe von Funktionen für eine verbesserte Prozesseffizienz, weniger Ausfallzeiten und einen schnelleren Durchsatz bietet. Es verwendet eine Reihe von Lithographie- und Musterausrichtungstechnologien, um hochpräzise Muster zu erstellen, und verfügt über eine Reihe von Funktionen, die dazu beitragen, das Risiko von Defekten zu reduzieren und die Geräteausbeute zu erhöhen.