Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9282380 zu verkaufen
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ID: 9282380
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Coater / Developer system, 12"
Left to Right
FOUP carrier
(3) FOUP Loader uni-cassetes
(3) Main controllers
(2) Thermo controllers
(2) Fire system boxes
PRB
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station
FOUP Cassette
(3) Cassettes
Uni-cassette system
Coater unit:
(6) Dispense nozzles
With temperature control line
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
Rinse system: (2) Buffer tank systems (3-Liters)
Degassing system
Programmable side rinse
PR Nozzle
(6) Bottles
Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H Nozzle:
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
NIKON SF130 Wafer stage
Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply
(5) Low temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill Plates (CPL)
(2) Precision chilling Hot Plates (PHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer Edge Exposure (WEE) unit
I-line UV Sensor
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
SHINWA Series ESA-8 Humidity controller
Temperature Control Units (TCU)
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist ein Photoresist (PR) -Gerät, das die Produktion von Halbleiterbauelementen schneller und effizienter macht. Es ist eine hochentwickelte Lösung, die verwendet wird, um die komplizierten Muster für die Übertragung von elektrischen Signalen auf einer Silizium-Waferoberfläche zu schaffen. Das System besteht aus mehreren verschiedenen Komponenten, von denen einige darauf ausgelegt sind, die Genauigkeit der Muster zu optimieren und eine sehr hohe Ausbeute zu gewährleisten. Die erste ist TEL clean track ETCH Einheit. Diese Maschine verwendet eine Kombination aus Trockenätzen und chemischem Ätzen, um sicherzustellen, dass der Wafer korrekt gemustert ist. Es gibt auch ein fortschrittliches Lithographie-Tool zur genauen Einrichtung des PR-Assets. Das Modell umfasst auch die AC-Magnet-Ausrüstung zur Steuerung der Geschwindigkeit der PR-Schichten und zur Optimierung der elektronischen Datenübertragung. Dieses System ist auch entworfen, um Fehler im Produktionsprozess zu reduzieren oder zu beseitigen. TEL Clean Track ACT 12 ist sehr zuverlässig und verfügt über mehrere eingebaute Sicherheitssysteme. Eine davon ist die Clean-Track Prozessüberwachungseinheit. Diese Maschine sorgt dafür, dass jeder Prozessschritt überwacht und Fehler korrigiert werden können. Das Tool verfügt auch über ein In-Line-Spiegelelement, das für die Echtzeit-Oberflächenüberwachung verwendet wird, um sicherzustellen, dass die PR-Ebenen korrekt angewendet werden. Ein weiteres wichtiges Merkmal von TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 ist seine Fähigkeit, die Parameter der PR-Schichten schnell an die Bedürfnisse der hergestellten Produkte anzupassen. Dies ermöglicht eine hohe Flexibilität und eine schnellere Produktionszeit. Schließlich ist das Modell auch in der Lage, Fehler während des Produktionsprozesses automatisch zu erkennen. Dies ermöglicht eine umfassendere und schnellere Qualitätskontrolle und die schnelle Behebung von Fehlern. Insgesamt ist Clean Track ACT 12 eine hochentwickelte und effiziente Photolackausrüstung. Seine Kombination aus innovativen Eigenschaften und Zuverlässigkeit machen es zur idealen Wahl für die schnelle und genaue Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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