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OXFORD Plasmalab 133
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OXFORD Plasmalab 133 #293824962

OXFORD

Plasmalab 133

Reactive Ion Etcher (RIE). 2"-12" Power: 600 W, 13.56 MHz RF Wafer thickness: 0.4 – 1.5 mm Etch rat
148
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OXFORD Plasmalab 133 #293824951

OXFORD

Plasmalab 133

Reactive Ion Etcher (RIE) Gas holder Control system Chiller Wafer sizes: 2″/3″/4″/5″/6″/8″/12″ Plasm
62
OXFORD Plasmalab 133 #293712618

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Plasmalab 133

Reactive Ion Etcher (RIE) ADVANCED ENERGY HiLight 136 RF Generator Chamber: Etching chamber Loadloc
404
OXFORD Plasmalab 133 #9404282

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Plasmalab 133

PECVD System.
375
OXFORD Plasmalab 133 #9090816

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Plasmalab 133

RIE (FL) Dry etchers FL: Configured for fluorine based chemistry Set up for SiO2 etch Platen: 330 mm
373
OXFORD Plasmalab 133 #9090813

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Plasmalab 133

RIE (CL) Dry etchers CL: Configured for chlorine based corrosive chemistry Set up for GaN etch Plat
396
OXFORD Plasmalab 133 #293824959

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Plasmalab 133

Reactive Ion Etcher (RIE).
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